製造装置

contact-150

微細加工用露光装置　（６インチ対応）

マスクとウェハを吸着させてコンタクト露光を行なうための微細加工用露光装置。　

１．光源

250W超高圧水銀ランプユニットUVE-251S（三永電機社製）採用

照射ユニット：EL-160）

光源仕様：

露光波長：254～436nm

ランプ：250W高圧水銀ランプ搭載

照度：10mW/cm2以上

照射エリア：160mm○

平行度；5度以内

ランプ寿命：1000時間

　　露光積算機能搭載

型式：SEC-602S

ＧＯＴ＋ＰＬＣ制御：グラフィック･オペレーション･タッチパネル操作、プログラミング･コントローラー制御、拡張性に富んでいます。

受光センサー：熱線遮断ガラス、パイレックスフイルターガラス、

紫外線フイルターの３層構造に定評のフォトセンサ測光、安定測光構造になっています。

紫外線フイルターは三層式受光センサー370ｎｍ仕様です。

ＧＯＴパネル操作：　操作は、グラフィックオペレーションタッチパネルの対話式、ワンタッチ操作で働きます。

工程、警報表示：　操作表示、作業工程の表示、動作表示、メンテナンス表示、アワーメーター表示、警報表示、など、取り扱いを簡単安全に操作出来ます。

メモリーｃｈ：　９ｃｈのメモリー機能を有します。誤入力を軽減し照射作業の安定化の向上。

アフターランニング：　照射ランプの劣化を防ぐ強制アフターランニング冷却機能でランプを守ります。

露光波長

バンドパスフィルターを搭載し、365nmの露光光を取り出します。

365nm±10nm（朝日分光社製）

２．露光ステージ

ウェハ・マスク吸着方式の露光ステージです。

３．システム

露光システムの全景を示します。

１．パターン解像

基板とマスクを密着露光できること。

1000nmラインパターンが分離解像していること。（LTJ検収用マスクを使用）

２．照度均一性

光照射エリアが160㎜φ以上あること。

面内均一性が±20％以下であること。

３．測定位置

150mm〇内において中心および中心から70mmの位置4ヵ所の計5ヵ所において、

±20％以下出あること。

４．自動露光量制御露光が出来る事。

４．露光操作