製造装置
contact-100
微細加工用露光装置 （４インチ対応）
Ⅰ概要
マスクとウェハを吸着させてコンタクト露光を行なうための微細加工用露光装置。
Ⅱ特徴
- 4インチSi基板と4インチマスクを密着露光します。
- マスクの保持は真空吸着です。
- 真空吸着時の真空度を真空計にて表示します。
１．パターン解像
基板とマスクを密着露光できること。
1μmのライン・パターンが分離解像していること。（凸版検収用マスクを使用）
２．照度均一性
光照射エリアが150㎜□以上あること。
面内均一性が±20％以下であること。
３．測定位置
150mm□内において中心および中心から70mmの位置4ヵ所の計5ヵ所において、
±20％以下であること。
４．自動露光量制御露光が出来る事。
Ⅲ構成
１．光源：200W Xe水銀ランプユニットEXCURE4000
（ホヤキャンディオ社製）
光源仕様：
露光波長：254、365、436nm(バンドパスフィルター使用）
ランプ：250W高圧水銀ランプ搭載
照射エリア：150mm□
ランプ寿命：2000時間
２．露光積算機能搭載
３．露光ステージ：ウェハ・マスク吸着方式
Ⅳ解像度の一例
