製造装置
contact-100
微細加工用露光装置 （４インチ対応装置）
Ⅰ概要
マスクとウェハを吸着させてコンタクト露光を行なうための微細加工用露光装置。
Ⅱ特徴
1)4インチSi基板と5インチマスクを用いて密着露光します。
2)マスクの保持は真空吸着です。
3)真空吸着時の真空度を真空計にて表示します。
4)コンタクト・プロキシミティー露光シミュレーションソフト Proxsim2を付属します。
（起動PCは付属しません。PCをご準備ください。Windows10以上）これにより限界解像性の目安が分かります。
5)オプション機能でシムを用いることで、プロキシミティー露光にも対応できます。
Ⅲ構成
光源：EXECURE4000-D
（HOYAキャンディオオプティクス社製）
UVライトガイド： ：FGS7F1000UVR-HT4 1台
UVレンズ：HLL-Q2 1個
熱線カットフィルター：FT 1個
ダイヤフラム型真空ポンプ：DAP-6D 1台
BPフィルター：365nm 50mm□ 1個
オフィールパワーメータ：StarLite（オフィール） 1個
パワーセンサー：PD300-UV 1個
Ⅳ検収
1)パターン解像
基板とマスクを密着露光できること。
および1.2㎛以上のラインパターンが分離解像していること。
（凸版テストチャートを使用）
（密着露光モード・PFI-37使用時）
2)照度均一性
光照射エリアが3mW/㎠以上あること。
面内均一性が±10％以下であること。
測定位置
50mm□内において中心および中心から12.5mmの位置4ヵ所の計5ヵ所において±10％以下であること。
3)自動露光量制御露光が出来ること。
※性能向上のため、外観および仕様は変更になる場合がございます。
VIオプション
密着露光用5インチフォトマスク
フォトマスクの例
